中国铸造网：由于各种金属离子在不同镀液中的电化学行为的不同，电源波型对各种电沉积过程的影响也是不一样的，实践中要根据不同的镀种和不同的工艺来选用不同的脉冲电源。以下只是一些常用镀种带共性的例子。
脉冲镀铜
普通酸性镀铜几乎不受脉冲的影响，但是在进行相位调制以后，分散能力大大提高。氰化物镀铜使用单相半波电源(W=121%)后，在不常会使镀层烧焦的电流密度下电沉积，可以得到半光亮镀层。酸性光亮镀铜在采用相位调制后，可用W=142%的脉冲电流使分散能力进一步提高，低电流区的光亮度增加。
有研究表明脉冲电流主要是改善了微观深度能力，特别是双脉冲电流可以提高印制板深孔镀层的均匀性。目前印制板电镀已经有采用双脉冲电流镀铜的动向，反向高脉冲电流有利于解决高厚径比(high desity interconnection，HDI)印制板中微孔的电镀问题。
脉冲镀镍
对于普通(瓦特型)镀镍，采用脉冲为W=144%和W=234%的电流，镀层的表面正反射率提高。以镜面的反射率为l00计，对于平稳直流，不论加温与否，镀层的反射率有40左右。而采用单相不完全整流(W=234%)和三相不完全整流(W=144%)时，随着温度的升高，镀层的反射率明显增加。45℃时，是60;60℃时，达到70;而在70℃进，可以达80。另外，交直流重叠，可以得到低应力的镀层。这种影响对氨基磺酸盐镀镍也有同样的效果。
脉冲率对光亮镀镍的影响不大，这可能是由于光亮镀镍结晶的优先取向不受脉冲电流的影响，但是采用周期断电，可以提高其光亮度。
双脉冲镀镍的配方与工艺如下：
脉冲电流参数：
镀铬
镀铬对电源波型非常敏感。有人对低温镀铬、微裂纹镀铬、自调镀铬以及标准镀铬做过试验。对于低温镀铬，试验证明要采用脉冲尽量小的电源，但W值仍可以达到30%。对于微裂纹镀铬，由于随着脉冲的加大，裂纹减少，当脉冲率达到W=60%时，裂纹完全消失，因而不宜采用脉冲电流。三相全波的W=4.5%，可以用于镀铬。
对于标准镀铬，在不用波型调制时，W不应超过66%。但是在采用皱波以后，则频率提高，镀层光亮。
自调镀铬在Cr03250h/L、K2SiF612.5g/L、Si(S04)25g/L的镀液中，在40℃时电镀，当脉冲率达到40%时，镀层明显减少，而W超过50%时，又能获得较好的镀层，但是当W达到l08%时，则不能电镀。在采用阻流线圈调制以后，W在60%以内，可以使镀层的外观得到改善。
特别值得一提的是脉冲电源对三价铬镀铬的作用更为明显。三价铬镀铬由于比六价铬的毒性要小得多，因而作为镀铬的过渡性替代镀层已经在工业产品中推广开来，但是三价铬镀铬由于硬度不够高而主要用于装饰性镀层，对于镀硬铬则还存在一定技术困难。
责任编辑：侯俊梅
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