化学抛光工艺条件的影响:
1、温度影响:
温度应控制在90-115度之间,其中最佳温度为105度。
2、抛光时间的影响:
抛光时间与抛光温度成反比,温度低延长抛光时间,温度高缩抛光时间。
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